等離子清洗設(shè)備能加高溫嗎？

文章出處：等離子清洗機廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2022-09-01

集成電路生產(chǎn)工藝需求，前期芯片制造，后期封裝及混合電路等的可持續(xù)發(fā)展;陶瓷、石英、高分子工程塑料等表面納米級的活化改性，由非極性到帶有一層納米級的極性材料表層，以提高材料表面物理和化學的粘接印刷涂覆上漆性能，最貼近生活化的如制鞋業(yè)的工藝生產(chǎn)需求，連接器上logo的印刷等;LCD液晶顯示屏表面有機物干擾材料的去除;金屬表層氧化物的去除等;等離子清洗的應用例子極為廣泛，而在等離子清洗設(shè)備反應腔室的電極載物托盤上進行托盤等離子有效區(qū)的整體均勻加熱行程高溫處理環(huán)境，在腔室四周外壁和真空門進行水冷，成為了促進等離子處理過程的有效方法。

溫度是等離子體產(chǎn)生的極重要因素，太陽及太陽風(太陽日冕)、熱核聚變就是典型的例子，研究不同溫度下等離子清洗系統(tǒng)內(nèi)等離子的密度活性，處理速度及均勻性，可選擇性地得到適宜的材料處理種類及厚度和處理后表面材料特性，并且不會對基材表面產(chǎn)生等離子損傷及熱損傷，這項技術(shù)具有很大的實用意義。此方面應用需求將越來越大，尤其是持續(xù)發(fā)展與需求的半導體集成電路生產(chǎn)領(lǐng)域。

等離子清洗設(shè)備能加高溫嗎？

等離子清洗設(shè)備可以采用石英加熱管的紅外熱輻射方式提高溫度，其電熱轉(zhuǎn)換效率高，使用壽命長，且電源引線不用暴露于真空腔體及等離子處理區(qū)域內(nèi)，以防止加熱方式的過早疲勞損壞引起不必要的短路等隱患。加熱溫度可設(shè)置為較之前更高一些的溫度，如300℃～400℃，最高耐溫達800℃攝氏度。

以上關(guān)于等離子清洗設(shè)備能加高溫的資料有國產(chǎn)等離子清洗機廠家納恩科技整理編輯，值得注意的是，等離子清洗設(shè)備溫度及工藝參數(shù)設(shè)置要求一般是針對工件自身要求的，例如工件自身基材及附屬材料的最適宜耐熱溫度及熱損傷，材料的物理化學性能在等離子氛圍中是否容易被改變及氧化，等離子處理后的材料損傷等。