等離子清洗時(shí)間怎么確定，是不是越長(zhǎng)越好
文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間：2022-07-06
等離子清洗技術(shù)是利用等離子體激發(fā)源激發(fā)工作氣體，生成具有活性的等離子體，然后等離子體與材料表面的污染發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成易揮發(fā)的物質(zhì)，，從而清洗材料表面的污染。
等離子清洗時(shí)間該怎么確定
等離子清洗時(shí)間需在合適的范圍，隨著時(shí)間的增加，等離子清洗效果會(huì)有一個(gè)增長(zhǎng)再降低的趨勢(shì)，即時(shí)間不是越長(zhǎng)越好。
等離子清洗要嚴(yán)格控制處理時(shí)間,清洗時(shí)間過(guò)少產(chǎn)品可能還未清洗干凈,清洗時(shí)間過(guò)長(zhǎng)可能會(huì)使產(chǎn)品表面遭到破壞,同時(shí)增加生產(chǎn)成本。
另外等離子清洗時(shí)間，還應(yīng)該與等離子清洗功率綜合考量。
等離子清洗功率與清洗時(shí)間的關(guān)系
通常在保證清洗效果的同時(shí)需要的時(shí)間越少越好以提高清洗的效率，但所用時(shí)間是與各個(gè)參數(shù)之間相互關(guān)聯(lián)的。清洗功率與清洗時(shí)間是等離子清洗非常重要的工藝參數(shù)，它們直接影響到器件清洗的質(zhì)量，如果選擇的功率越小，那么可以適當(dāng)延遲清洗時(shí)間；功率較大，則可以適當(dāng)減少清洗時(shí)間。功率越大，清洗時(shí)間越短，但會(huì)導(dǎo)致清洗室和零件溫度升高。對(duì)于許多處理工藝來(lái)說(shuō)，較高的溫度會(huì)導(dǎo)致清洗不均勻或零件發(fā)生刻蝕。因此具體的功率和時(shí)間參數(shù)設(shè)置，需要根據(jù)被清洗器件的材料及器件表面污染物而定。
已有研究表明,對(duì)PDMS表面進(jìn)行氧等離子體清洗后,高能量的氧等離子體作用于PDMS表面,在其上形成Si-O-Si結(jié)構(gòu),改善了PDMS的表面浸潤(rùn)性;隨著時(shí)間延長(zhǎng),表面的Si-O-Si結(jié)構(gòu)向本體擴(kuò)散,表面浸潤(rùn)性逐漸消失。
綜上所述，等離子清洗時(shí)間是一個(gè)需要慢慢摸索的參數(shù)，并不是一個(gè)固定的參數(shù)，對(duì)于有經(jīng)驗(yàn)的廠家來(lái)說(shuō)，對(duì)于各種材料的清洗時(shí)間都會(huì)有一個(gè)大概的參考標(biāo)準(zhǔn)，但也不是固定的。我們只需要記住，時(shí)間過(guò)長(zhǎng)或者過(guò)短都會(huì)影響等離子清洗的效果，適合自己的才是最好的，可以自行嘗試然后找到合適的參考范圍。
以上就是國(guó)產(chǎn)等離子清洗機(jī)廠家納恩科技關(guān)于等離子清洗時(shí)間的一些簡(jiǎn)單講解。一般來(lái)說(shuō)，等離子清洗半導(dǎo)體元器件的清洗時(shí)間不宜過(guò)長(zhǎng)，一般在幾十秒的時(shí)間，像塑料高分子或者難處理的材料的處理時(shí)間一般比較久，可以從十幾分鐘，到幾個(gè)小時(shí)都有可能。
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