等離子體的產生依賴于等離子體電源的高壓激勵，同時也離不開等離子體發(fā)生器載體。根據氣體放電類型的不同，工業(yè)應用中常見的等離子體表面處理發(fā)生器有：電暈發(fā)生器、介質阻擋發(fā)生器、射流發(fā)生器和滑動弧發(fā)生器。...
2022-09-19
在天然乳膠表面處理過程中，經過等離子體處理的材料引入了親水基團-COOH、-OH，增加了材料的親水性能，同時引入含氮和氧的含量，增強了膠粒之間的粘合性能，并改善了乳膠膜的力學性能。...
2022-09-16
等離子體處理技術是指通過等離子體中的高能粒子對表面進行轟擊，使表面物質降解，增加表面粗糙度，若等離子體中有其他活性粒子，如氧離子，則可與表面物質發(fā)生反應而使表面活化的一種方法...
2022-09-16
從工藝過程控制看，真空等離子清洗機是通過選擇和調整工藝參數如功率、時間、壓力、氣體種類等進行工藝控制的，操作方便，簡單，等離子清洗時只有根據實際情況選取相關的工藝參數才能達到好的清洗效果。...
2022-09-16
利用等離子體處理PET薄膜表面，結果表明，經過等離子體表面處理后，PET薄膜表面產生大量極性基團，親水性明顯提高，PET薄膜表面粗糙度增加，粘接性得到提高。...
2022-09-15
經過等離子改性后親水性極性官能團的數量明顯增加，這些基團與水分子相互作用強烈，從而增加了PLA的表面潤濕性和表面能，降低了接觸角。...
2022-09-14
等離子體處理可以通過將含氧基團和含氮基團引入PVC導管表面的方法,使其表面極性改變,提高表面潤濕性,使接觸角(水)降低到10°左右。...
2022-09-14
SU-8光刻膠是由C、H、O、N等元素組成的有機物。等離子去膠工藝采用的刻蝕氣體是O2/CF4混合氣體。隨著溫度的升高，被激活的氧等離子與有機物發(fā)生化學反應，破壞了光刻膠中較穩(wěn)定的化學成分。同時，F的自由基化學活性很高，在電離過程中不斷地與光刻膠中H發(fā)生化學反應而生成氟化氫（HF），促進了O2與有機物反應，生成的氣態(tài)物質最終被清洗氣體（N2）通過抽壓方式排出。...
2022-09-14
高分子材料的等離子體表面處理通常采用輝光放電低溫等離子體,由相互作用引起的表面原子層的變化不超過幾個原子層,因而不會破壞或改變材料的體相性質。...
2022-09-11
在正常情況下，硅基光學元件和CF4和SF6等刻蝕氣體是很難進行反應的。而將刻蝕氣體通過自由基等離子體源電離產生自由基等離子體，含有的大量自由基反應活性十分強，可以破壞硅基光學材料的化學鍵，從而發(fā)生了反應并且與之結合產生揮發(fā)性物質SiF4，達到刻蝕目的。...
2022-09-10
除了以上水滴角測試，達因值測試，拉力值測試幾種簡單評價評估等離子清洗機清洗效果的方式，其他還可以通過傅立葉紅外光譜測試表面成分，原子力顯微鏡測試表面形貌結構與粗糙度，還可以通過場發(fā)射掃描電子顯微鏡（ FE-SEM ）研究等離子清洗對表面形貌的影響，還可以通過百格測試檢測表面張力是否達標。...
2022-09-09
在半導體行業(yè)等離子清洗機已廣泛應用于表面清洗及活化，以提高表面的粘結性，能為后繼的芯片粘接、導線連接或塑料封裝工藝做準備。等離子污染物清除和表面活化技術改善了表面性質，從而提高了半導體封裝工藝的可靠性和產量。...
2022-09-08
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