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等離子清洗在納米壓印玻璃晶圓清洗中的應(yīng)用

文章出處:等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時(shí)間:2022-04-28
微納米加工技術(shù)作為一種典型的先進(jìn)制造技術(shù),其制造精度可達(dá)到納米級別,在小型甚至微型元器件、微型芯片及生物傳感器的制造、批量化生產(chǎn)中具有不可取代的作用。納米壓印技術(shù)作為新型的光刻技術(shù),具有成本低、分辨率高、效率高、制造流程便捷等優(yōu)點(diǎn)。

納米壓印工藝流程

納米壓印是納米壓印生產(chǎn)整體流程中最為核心,也是難度最高的環(huán)節(jié),整體分為2個(gè)部分:子版制作和晶圓玻璃壓印。
 
1、子版制作(軟膜制作)
由于光柵母版制作成本高,所以不能直接用做生產(chǎn)。因此,必須將光柵母版的結(jié)構(gòu)一比一轉(zhuǎn)印到不易損壞的子版上,進(jìn)而復(fù)制出多個(gè)子版。這就是子版制作環(huán)節(jié)。首先,需要先制作出光柵母版,然后對母版進(jìn)行清洗和表面抗粘處理。最后,使用柔性基材進(jìn)行軟膜壓印、固化、脫膜。通過以上操作,便可復(fù)制出多個(gè)子版。

2、晶圓玻璃壓印
子版制作完成后,即可開始進(jìn)行晶圓玻璃壓印。經(jīng)過晶圓清洗、旋涂勻膠、納米壓印、固化、脫模等流程,便可將子版上的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)印到晶圓上面,完成批量生產(chǎn)。

在正式使用模板進(jìn)行壓印工藝之前,在壓印基底表面涂覆表面性能優(yōu)異的壓印膠薄膜是保證壓印品質(zhì)的關(guān)鍵。常用的涂膠方式主要有:旋涂法、滾動(dòng)法、提拉法以及噴霧法。與基底表面涂膠前,對基底進(jìn)行徹底的清洗是必須的,以防止壓印過程中發(fā)生脫膠現(xiàn)象。

等離子清洗玻璃晶圓基底
紫外納米壓印流程
紫外納米壓印流程

由于晶圓在加工過程中,會(huì)與各種有機(jī)物、粒子及金屬接觸并產(chǎn)生污染物,所以在晶圓涂膠之前需要對其進(jìn)行清洗。一般采用等離子清洗的方式對晶圓表面進(jìn)行清洗,通過等離子清洗,一方面清除了表面顆粒無、有機(jī)污染物,得到一個(gè)清潔的晶圓表面,另一方面改善了晶圓表面的親水性,清潔的晶圓表面更有助于與壓印膠之間的粘附性。
等離子清洗晶圓
等離子清洗晶圓

等離子清洗技術(shù)利用等離子體內(nèi)活性分子來清洗晶圓表面。等離子清洗原理與超聲兆聲等濕法清洗不同,在接近真空的環(huán)境下,通過射頻電源使內(nèi)部殘余氣體分子電離,產(chǎn)生等離子體,這些等離子體在電場下加速,之后做高速運(yùn)動(dòng),和被清洗的晶圓表面發(fā)生物理碰撞,將表面的污染物去除。

等離子清洗無需清洗劑,空氣就能夠產(chǎn)生等離子體,操作工藝簡單無污染,而且等離子體清洗不但可以清洗晶圓表面,還可以提高表面活性,提高材料表面粘接能力,提高焊接能力,親水性等,優(yōu)勢十分明顯,因此等離子清洗在納米壓印行業(yè)中應(yīng)用前景極其廣泛。

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